请认准"下载楼"官方域名 http://www.daxingwx.net     第359章 林决：不用适应，现在我手里已经有个方案了 (第1/3页)

    谷方绪微微叹气，

    “是的。”

    “具体问题呢？”

    林决转头看了谷方绪一眼，继续问。

    “目前核心短板是初期污染控制，团簇均匀分散，RLS协同控制。”

    林决点了点头，找到相关的工程日志看了看。

    然后便发现。

    很多试样曝光时，锡挥发会产生严重超标。

    这样的情况出现后，会持续污染上游多层反射镜和PelliCle保护膜。

    但如果将这种情况控制住，材料灵敏度和粗糙度又会同时变差。

    属于是一根筋两头堵的难点。

    见状，谷方绪继续说道，

    “除此之外，上游高产有机配体，底层反射层整套配套链条也不完善......

    我们毕竟缺少真实EUV整机长期的工况验证平台，所以目前只能做短时间模拟曝光，难以验证晶圆连续晶圆体连续加工稳定性......”

    说话间，林决已经快速阅览好几个文件。

    “好的，具体情况我下来再看看。”

    林决说着，将文件拿起放在腋下，然后伸出手，

    “谢了谷教授，希望我们能共同进步，将这个难关彻底突破！”

    谷方绪看了看眼前这个少年还略显稚嫩，但却充满了自信的脸庞，心中不禁泛起些许涟漪。

    “那好！共同进步！”

    说罢，两人紧紧握手。

    恍惚间，谷方绪好像产生一种，新老时代交替的错觉。

    “好了谷教授，我先回去了，你们忙吧。”

    “好的。”

    看着林决离去的背影，谷方绪在原地驻足良久。

    说实话，谷方绪搞科研这么多年以来，其实早就不怎么吃压力了。

    但看着那个背影，他却没由来感觉，自己老项目组，很可能会被对方当减速带碾压过去的错觉......

    不过......

    即使有这种感觉，但谷方绪对林决却并未有厌恶之感。

    相反，从最私心的角度来讲。

    他可能是整个光机所，最希望林决能在此途成功的人了......

    因为就算冯宴教授回国。

    可能在材料方面的进步，前进也是有限的。

    但林决呢......

    在谷方绪印象中，他总创造一些让人为之惊叹的奇迹！

    冯教授能够保证下限。

    但林决，却让人觉得上限能够无限拔高......

    给我证明吧林决，这是你的时代！

    .............

    

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